Gás de alta pureza de trifluoreto de nitrogênio (NF3)
Informações Básicas
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
O que é esse material?
O trifluoreto de nitrogênio (NF3) é um gás incolor e inodoro à temperatura ambiente e à pressão atmosférica. Pode ser liquefeito sob pressão moderada. O NF3 é estável em condições normais e não se decompõe facilmente. No entanto, pode decompor-se quando exposto a altas temperaturas ou na presença de certos catalisadores. O NF3 tem um elevado potencial de aquecimento global (GWP) quando libertado na atmosfera.
Onde usar esse material?
Agente de limpeza na indústria eletrônica: O NF3 é amplamente utilizado como agente de limpeza para remover contaminantes residuais, como óxidos, das superfícies de semicondutores, painéis de plasma (PDPs) e outros componentes eletrônicos. Ele pode limpar essas superfícies com eficácia sem danificá-las.
Gás de gravação na fabricação de semicondutores: NF3 é usado como gás de gravação no processo de fabricação de semicondutores. É particularmente eficaz na gravação de dióxido de silício (SiO2) e nitreto de silício (Si3N4), que são materiais comuns utilizados na fabricação de circuitos integrados.
Produção de compostos de flúor de alta pureza: NF3 é uma fonte valiosa de flúor para a produção de vários compostos contendo flúor. É usado como precursor na produção de fluoropolímeros, fluorocarbonos e especialidades químicas.
Geração de plasma na fabricação de telas planas: o NF3 é usado junto com outros gases para criar plasma na produção de telas planas, como telas de cristal líquido (LCDs) e PDPs. O plasma é essencial nos processos de deposição e ataque durante a fabricação do painel.
Observe que as aplicações e regulamentações específicas para o uso deste material/produto podem variar de acordo com o país, indústria e finalidade. Siga sempre as orientações de segurança e consulte um especialista antes de usar este material/produto em qualquer aplicação.
